電子級三氟化氮(NF3)是一種優良的等離子蝕刻氣體，具有優異的蝕刻速率和選擇性，在蝕刻物表面不留任何殘留物，是非常良好的清洗劑 ; 同時於芯片製造，在高能激光器方面獲得到了廣大的運用。
三氟化氮(NF3)的主要用途如下:
一、作為高能化學激光氣的氟源。
二、作為電子工業(IC)中的蝕刻劑、清洗劑。
三、應用於太陽能光電產業。
四、生產全氟銨鹽，用作填充氣體以增加燈泡的壽命和亮度，在採礦和火箭技術中用作氧化劑等。
本公司產品為電子級之規格: 4N 以及 4N6
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